新能源光伏裝備
〈
〉
,,
...
- 産品簡介
- 産品特點
- 技術參數
- 應用範圍
PECVD 即等離子體增強化學氣相澱積設備，是利用高頻電源輝光放電産生,,等離子體對化學氣相沈積過程施加影響的技術。電子和離子的密度達 109～1012個/cm3，平均電子能量可達1～10ev。由于等離子體存在，促進氣體分子的分解、化合、激發和電離，促進反,,應活性基團的生成，從而降低沈積溫度。PECVD 在 200℃～500℃範圍內成膜，遠小于其它 CVD 在 700℃～950℃範圍內成膜。由于在氨氣條件下，提高了活性基因的擴散能力，從而提高薄,,膜的生長速度和均勻性。在沈積過程中，由于大量的氫存在，起到表面鈍化作用。
- 1、産能大，單片成本少
采用Ф450mm管徑的反應腔，具有産能大、單片成本少、工藝性能佳的優點，單台4管設備156矽片的産能可達18,,00片/小時（每管308片/批），同時兼容240片/批、280片/批的産能(整機産能相應按比例下降)。
2、自動化程度高
全自動上下舟系統，一鍵全自動工藝，自動化,,程度的提高增加了産品的重複性和一致性。
3、高精度溫度控制
采用自主研發、設計、制造的爐體，高精度五段,,雙回路溫度控制系統，回溫速度快，控制精度均處于國內領先地位。
4、業內領先的新型壓力控制系統
采用自主新研發的新型全自動精密閉環壓力控,,制技術，壓力控制精度以及實時響應能力大幅提高30%，真空系統更加高效、穩定性提高，反應腔氣氛更加均勻。
- 1、成膜種類： 二氧化矽、氮化矽；
2、裝片尺寸及裝片量： 156x156mm方片（308片/批）；
3、成膜均勻性 片內≤±3% 片間≤±3% 批間≤±2%（膜厚80nm左右，折射率大于2.04）；
4、爐膛有效內徑： Ф475mm (石英管外徑Ф450mm)；
5、溫度控制範圍： 300～600℃；
6、恒溫區長度及精度： ±2℃/1450mm（500℃）；
7、升溫時間： RT→450℃≤40min；
8、系統極限真空： 3Pa；
9、工作壓力範圍和精度： 50 Pa～300±5Pa（閉環控制）；
10、氣密性： 漏率≤1×10-7pa.m3/s。 
- 目前在太陽電池行業主要用PECVD設備來澱積氮化矽減反射鈍化膜。
ADVISORY MESSAGEA
咨詢留言
